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CMP拋光液研發(fā)裝置

描述：CMP 拋光液研發(fā)裝置是專門用于開發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關鍵設備。

  • 廠商性質：生產(chǎn)廠家
  • 更新時間：2024-08-14
  • 訪問量：678
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標題：CMP拋光液研發(fā)裝置

產(chǎn)品概述

CMP 拋光液研發(fā)裝置是專門用于開發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關鍵設備。


主要組成部分：


  1. 小型反應釜：用于進行各種化學合成和調配實驗。

  2. 精密計量系統(tǒng)：能夠精確控制各種原材料的添加量，確保配方的準確性。

  3. 多模式攪拌系統(tǒng)：提供不同的攪拌速度和方式，以模擬不同的反應條件。

  4. 溫度和壓力調節(jié)系統(tǒng)：可實現(xiàn)精確的溫度和壓力控制，滿足多樣化的實驗需求。

  5. 在線監(jiān)測儀器：如粒度分析儀、pH 計、粘度計等，實時監(jiān)測拋光液的性能參數(shù)。

  6. 樣品采集和分析系統(tǒng)：方便隨時采集樣品進行離線的深入分析。


工作原理：
研究人員根據(jù)設定的配方，通過精密計量系統(tǒng)將原材料加入小型反應釜中。利用多模式攪拌系統(tǒng)和溫度、壓力調節(jié)系統(tǒng)創(chuàng)造適宜的反應環(huán)境。在反應過程中，在線監(jiān)測儀器實時反饋數(shù)據(jù)，研究人員根據(jù)這些數(shù)據(jù)調整實驗參數(shù)。需要時，通過樣品采集和分析系統(tǒng)獲取更詳細的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。


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